شيشي جي دنيا جي ترقي جي تاريخ

1994 ۾، برطانيه گلاس پگھلڻ جي امتحان لاء پلازما استعمال ڪرڻ شروع ڪيو. 2003 ۾، يو ايس ڊپارٽمينٽ آف انرجي ۽ گلاس انڊسٽري ايسوسيئيشن پاران ننڍي پيماني تي پول ڊانسٽي ٽيسٽ ڪئي وئي جيڪا تيز-شدت پلازما پگھلڻ واري اي گلاس ۽ گلاس فائبر جو، 40 سيڪڙو کان وڌيڪ توانائي بچائي. جاپان جي نئين توانائي انڊسٽري ٽيڪنالاجي جامع ترقي واري ايجنسي پڻ جاپان جي xiangnituo ۽ ٽيڪنالاجي جي ٽوڪيو يونيورسٽي کي گڏيل طور تي 1t / ڊي ٽيسٽ قائم ڪرڻ لاء منظم ڪيو. شيشي جي بيچ ريڊيو انڊڪشن پلازما حرارتي ذريعي پرواز ۾ ڳري وئي هئي. پگھلڻ جو وقت صرف 2 ~ 3H هو، ۽ مڪمل ٿيل شيشي جو جامع توانائي واپرائڻ 5.75mj/kg هو. 2008 ۾، xiangnituo 100t سوڊا ليم گلاس جي حفاظت جو امتحان ڪيو، ۽ پگھلڻ جو وقت اصل جي 1/10 تائين گھٽايو ويو، توانائي جو استعمال 50٪ گھٽايو ويو، Co، No. آلودگي جي اخراج 50٪ گھٽائي وئي. جاپان جي نئين انرجي انڊسٽري (NEDO) ٽيڪنالاجي جامع ترقي واري ايجنسي بيچنگ لاءِ 1 ٽي سوڊا ليم گلاس ٽيسٽ حل استعمال ڪرڻ جو ارادو رکي ٿي، ان فلائيٽ پگھلڻ سان گڏ ڊمپپريشن ڪلريفڪيشن جي عمل سان گڏ، ۽ 2012 ۾ پگھلڻ واري توانائي جي استعمال کي 3767 kJ/kg گلاس تائين گھٽائڻ جو منصوبو. .

شيشي جي خام مال جي لحاظ کان، تاريخ ۾ شيشي کي پگھلڻ لاءِ گلينا ۽ ريڊ ليڊ استعمال ڪيا ويا. گلينا ۽ ڳاڙهي ليڊ مان ٺهيل ليڊ گلاس شفاف ۽ ٺاهڻ ۽ ترڻ ۾ آسان آهي، جيڪو سوڊا ليم گلاس کان گهڻو بهتر آهي. اهو هڪ ڀيرو سوچيو ويو ته اها ترقي آهي. پر بعد ۾، ماڻهن کي آهستي آهستي ليڊ شيشي جي آلودگي جا نقصان معلوم ٿيا. موجوده طور تي، نظرياتي شيشي ۽ ليڊ ڪيز شيشي جي اضافي، يورپ، شيشي، شيشي، شيشي، شيشي، گلاس، گلاس، گلاس، گلاس، گلاس، گلاس، گلاس، گلاس شيشي، شيشي، گلاس، گلاس، گلاس، گلاس ليڊ کي رانديڪن ۽ ڪجهه پيڪنگنگ مواد کان منع ڪئي وئي هئي. پارو، ڪيڊميئم ۽ ارسنڪ تي به پابندي هئي. 18 صدي عيسويء کان 19 صدي عيسويء تائين، شيشي جي آئيني کي ٽين سان گڏ ڪيو ويو آهي شيشي جي پٺي تي عڪس جي لاء، پر اهي انتهائي زهر هئا. 1835 ۾، ڪيميائي چانديء جي بدران استعمال ڪيو ويو. قديم زماني ۾، آرسنڪ آڪسائيڊ کي نقلي جيڊ مصنوعات ٺاهڻ لاء opacifier طور استعمال ڪيو ويو. اهو اثر ٻين opacifiers لاء حاصل ڪرڻ ڏکيو هو. تنهن هوندي به، ان جي زهر جي ڪري، ان کي ڊگهي وقت کان منع ڪئي وئي آهي opacifier طور استعمال ڪرڻ. نه رڳو کاڌي پيتي سان رابطي ۾ ايندڙ شيشي جي ڪنٽينرز کي آرسينڪ آڪسائيڊ جي بدران ڪلريفائير طور استعمال ڪيو ويو، پر آرسينڪ کي ختم ڪرڻ لاءِ به آپٽيڪل شيشي جو استعمال ڪيو ويو، نان آپٽيڪل شيشي جي ترقي غير قابل تجديد وسيلن جي استعمال کي گهٽائي ڇڏيو آهي جهڙوڪ خام مال ۽ توانائي، گڏو گڏ ٽرانسپورٽ ۾ ڪاربان واپرائڻ. مثال طور برطانيه کي وٺو، هر شيشي جي بوتل 1/10 کان گهٽجي ويندي آهي، ۽ هر سال 250000 ٽن شيشي جو استعمال ۽ 180000 ٽن CO2 جو اخراج گهٽجي ويندو آهي. پرڏيهي اسڪالرن اهو به ٻڌايو ته شراب جي بوتلن جي معيار ۾ 1 گرام جي گهٽتائي ٿي آهي ۽ فضا ۾ خارج ٿيندڙ مقدار ۾ به 1 گرام جي گهٽتائي ٿي آهي. ايرو اسپيس ۾، هوائي جهاز، نقل و حمل، شيشي ڪاميٽي جي گهٽتائي وڌيڪ اهم آهي. تابڪاري جي مزاحمت کان علاوه، خلائي آپٽيڪل سسٽم جي ماس کي گھٽائڻ جي ضرورت آهي. مثال طور، TiO2 استعمال ڪيو ويندو آهي PbO، Bao، CDO کي تبديل ڪرڻ لاءِ ساڳي ريفرڪٽري انڊيڪس سان آپٽيڪل گلاس تيار ڪرڻ لاءِ. آٽو موبائيل ونڊ شيلڊ جو وزن گھٽائڻ لاءِ، حفاظتي گلاس تيار ڪرڻ لاءِ 2mm فليٽ شيشي جو سبسٽر استعمال ڪيو ويندو آهي. اهو خاص طور تي فليٽ پينل ڊسپلي لاءِ صحيح آهي، جتي شيشي جي ٿولهه 2mm کان 1.5mm کان گهٽ ٿي وئي آهي. ٽچ اسڪرين جي ٿولهه 0.5mm کان 0.1mm تائين گھٽجي وئي آهي؛ پورٽبل اليڪٽرانڪ ڊوائيس ڊسپلي جي ٿولهه 0.3mm تائين گھٽجي وئي آهي. 2011 ۾، Asahi nitzsch 0.1 mm alkali free substrate پيدا ڪيو فلوٽ طريقي سان ٽچ اسڪرين، سيڪنڊ نسل جي ڊسپلي، روشني ۽ طبي علاج لاء. ٿلهي شيشي ۽ الٽرا پتلي شيشي کي شمسي سيلن جي سبسٽرٽ ۽ ڍڪڻ واري پليٽ لاءِ استعمال ڪيو ويندو آهي سيٽلائيٽ، خلائي جهازن ۽ خلائي جهازن کي لانچ ڪرڻ ۽ آپريشن ۾ توانائي جي استعمال کي بچائڻ لاءِ. ذيلي ذخيري ۽ ڍڪڻ واري پليٽ جي ٿولهه 0.1 ملي ميٽر کان 0.008 ملي ميٽر تائين گھٽجي ويندي آهي.

انضمام ۽ عقليت هڪ ئي قسم جي شيشي جي شين جي ڪيترن ئي ڪمن کي ٺاهيندي آهي ۽ هڪ نئين قسم جي جامع مواد بڻجي ٿي جنهن ۾ ٻٽي ۽ گهڻن ڪمن سان گڏ، جنهن کي اصل ضرورت آهي ملائي فنڪشنل گلاس استعمال ڪرڻ ۽ ان کي هڪ قسم جي فنڪشنل گلاس ۾ تبديل ڪرڻ. مثال طور، مستقبل جي ذهانت واري عمارت جي شيشي ۾ خودڪار ڊمنگ، آواز جي موصليت، گرمي جي حفاظت، هوائي صاف ڪرڻ، اينٽي بيڪٽيريل ۽ اسٽريلائيزيشن جا ڪم آهن، ۽ پڻ فوٽو وولٽڪ انضمام (سولر سيل پاور جنريشن)، شمسي گرمي گڏ ڪرڻ، فوٽوڪاتيليٽڪ ردعمل هائڊروجن ۽ گلاس کي گڏ ڪري سگھن ٿا. پردي جي ڀت توانائي جي بچت، ماحولياتي تحفظ ۽ وسيلن جي جامع استعمال سان هڪ ذهين عمارت ٺاهڻ لاءِ.

شيشي ۽ نامياتي مادو جو هائبرڊ نانو اسڪيل ۾ ٻنهي جي ميلاپ ڏانهن اشارو ڪري ٿو، جيڪو انٽرفيس جي رابطي کي مضبوط ڪري سگهي ٿو، سختي کي مڪمل راند ڏئي ٿو، طول و عرض جي استحڪام، تيز نرمي جي درجه حرارت ۽ گلاس جي اعلي حرارتي ملڪيت، ۽ پڻ. نامياتي ننڍڙن ماليڪيولر پوليمر جي ڪچري، نرم پروسيسنگ ۽ تبديليءَ جي صلاحيت کي استعمال ڪريو، جيئن نئين مواد حاصل ڪرڻ لاءِ جيڪي ڊزائين ڪري سگهجن، گڏ ٿيل، مخلوط ۽ تبديل ٿيل. هائبرڊ مواد جا نوان ڪم مختلف نامياتي اجزاء کي چونڊڻ سان حاصل ڪري سگھجن ٿا، جهڙوڪ منتقلي ڌاتو الڪو آڪسائيڊ سسٽم ۾ conductive پوليمر شامل ڪرڻ. هائبرڊ مواد جي خاصيتن کي مقصد سان ڊزائين ۽ ترتيب ڏئي سگهجي ٿو، جهڙوڪ نامياتي رنگن يا پي-ڪنجوگيٽڊ پوليمر کي گلاس نيٽ ورڪ ۾ شامل ڪرڻ لاء نظرياتي مواد حاصل ڪرڻ لاء لڪير کان غير لڪير ملڪيت سان؛ مثال طور، هائبرڊائيزيشن پاران تيار ڪيل فاسفٽ گھٽ پگھلڻ واري شيشي جي شيشي جي منتقلي جي درجه حرارت 29 ℃ جي طور تي گهٽ آهي.

روايتي گلاس نازڪ آهي، جيڪو ان جي استعمال کي متاثر ڪري ٿو. شيشي کي مضبوط ۽ مضبوط ڪرڻ هڪ تڪڙي تحقيقي ڪم آهي. مستقبل ۾، اسان کي مائڪرو ڪرڪس جي ساخت جي سببن کي ڳولڻ جي ضرورت آهي، مٿاڇري جي تخليقي ٽيڪنالاجي کي استعمال ڪرڻ، ڪڪڙ جي پروپيگنڊا کي ڪيئن روڪڻ، ڪيئن ڀڃڻ کي شفا ڏيڻ، شيشي جي مٿاڇري جي خاصيتن کي ڪيئن تبديل ڪرڻ، ۽ شيشي کي نانو تعميرات سان ڪيئن مضبوط ڪرڻ جي ضرورت آهي. .

مستقبل ۾، روايتي شيشي کي سائنس ۽ ٽيڪنالاجي جي مواد کي بهتر ڪرڻ، وسيلن جي استعمال جي شرح کي بهتر ڪرڻ، ۽ گهٽ-آخر صنعت جي پيماني تي توسيع کان اعلي اضافو قدر جي ترقي تائين، سائي ۽ گهڻ-فعلي ترقي ڏانهن وڌڻ جي ضرورت آهي. اعلي معيار. جيئن ته فنڪشنل مواد لاء، شيشي جي ڪجهه شاندار ملڪيت کي تبديل نٿو ڪري سگهجي. 21 هين صدي فوٽونڪس جي صدي آهي، ۽ فوٽونڪس ٽيڪنالاجي کي فوٽوونڪس گلاس کان الڳ نٿو ڪري سگهجي، جيڪا معلومات جي پيداوار، ٽرانسميشن، اسٽوريج، ڊسپلي، اسٽوريج، اسٽوريج، اسٽوريج، اسٽوريج ۽ اهڙي طرح شمسي توانائي تي هڪ اهم اثر آهي. قابل تجديد توانائي ۽ صاف توانائي، ۽ گلاس شمسي توانائي جي پيداوار لاء هڪ اهم مواد آهي، جهڙوڪ الٽرا سفيد شيشي جي سبسٽريٽ ۽ سولر سيلز جي ڍڪ پليٽ، شفاف conductive گلاس، خاص طور تي انضمام. photovoltaic عمارت. ان ۾ شمسي توانائي جي پيداوار کي شيشي جي پردي جي ڀت سان گڏ ڪرڻ لاءِ وسيع ايپليڪيشن جو امڪان آهي.